სილიკონის ობიექტივი (Si ობიექტივი) ინფრაწითელი აპლიკაციებისთვის

სილიკონის ლინზა არის სილიკონისგან დამზადებული ოპტიკური ლინზა.სილიციუმი (Si) არის კრისტალური მასალა, რომელიც ჩვეულებრივ გამოიყენება ინფრაწითელ ოპტიკურ სისტემებში, რომლებიც მუშაობენ 3-დან 5 μm სპექტრულ ზოლში.მისი რეფრაქციული ინდექსი მთელ დიაპაზონში 3.4-ს აღწევს.მას აქვს შედარებით დაბალი სიმკვრივე საერთო ინფრაწითელ მასალებს შორის, რაც Ge, GaAs და ZnSe-ის მხოლოდ ნახევარია.ამრიგად, სილიკონის მასალა იდეალური არჩევანია წონით შეშფოთებული სისტემისთვის.სილიკონი ასევე უფრო რთული და იაფია, ვიდრე ჩვეულებრივი ინფრაწითელი მასალების უმეტესობა, ამცირებს მასალის ღირებულებას და ამავე დროს ზრდის წარმოების ღირებულებას.

სილიკონი კარგად შეეფერება MWIR გამოყენებას, მაგრამ 6 მიკრონიზე მაღალი შთანთქმის გამო, ის არ არის შესაფერისი LWIR გამოყენებისთვის.ის ასევე შეიძლება გამოყენებულ იქნას როგორც სარკის სუბსტრატი ლაზერული გამოყენებისთვის მისი თბოგამტარობის, მსუბუქი წონის და სიხისტის გამო.

ტალღის სიგრძე ინფრაწითელიშეუძლია სხვადასხვა ფორმის სილიკონის ლინზების დამზადებასიბრტყე, ჩაზნექილი, ამოზნექილი, ასფერული და დიფრაქციული ზედაპირები.სილიკონი ყველაზე პოპულარულია 3-5 μm სპექტრულ რეგიონში მოქმედი სისტემებისთვის, ანტირეფლექსური საფარით (AR საფარი), საშუალო გადაცემის 98% -მდე მიყვანა.ჩვენ ასევე შეგვიძლია გამოვიყენოთ ალმასის მსგავსი ნახშირბადის საფარი (DLC საფარი) ან მაღალი გამძლეობის საფარი (HD საფარი) ლინზის ზედაპირზე, რათა უზრუნველვყოთ დამატებითი დაცვა ნაკაწრისა და ზემოქმედებისგან.

ტალღის სიგრძე ინფრაწითელიაწარმოებს ხარისხის მორგებულ სფერულ და ასფერულ სილიკონის ლინზებს.მათ შეუძლიათ ფოკუსირება ან განასხვავონ შემომავალი სინათლის სხივი ინფრაწითელი სისტემის სპეციფიკური მოთხოვნების დასაკმაყოფილებლად.